Target tantalumsono utilizzati principalmente in vari processi di deposizione di film sottili, che coprono una varietà di campi ad alta tecnologia dalla produzione di elettronica e semiconduttore a rivestimenti anticorrosivi e attrezzature mediche.
Nel campo dell'elettronica e della produzione di semiconduttori, i target al tantalio sono diventati un'importante fonte di materiali a film sottile attraverso la tecnologia di deposizione fisica da fase vapore (PVD) o deposizione chimica da fase vapore (CVD). Viene utilizzato principalmente per il rivestimento di semiconduttori e rivestimenti ottici, come la formazione di barriere di diffusione a film sottile per proteggere le interconnessioni in rame, e per la fabbricazione di prodotti come supporti di memorizzazione magnetici, testine di stampanti a getto d'inchiostro e display a schermo piatto.
Inoltre, i bersagli al tantalio sono ampiamente utilizzati anche nella produzione di apparecchiature chimiche, tubi a vuoto, dispositivi medici e impianti grazie alla loro eccellente resistenza alla corrosione, all'elevato punto di fusione e alla biocompatibilità. Nelle apparecchiature chimiche, i bersagli al tantalio possono resistere a temperature elevate, acidi forti e alcali forti e mostrare una stabilità estremamente elevata.
Esposizione del prodotto target sputtering al tantalio
