Obiettivi di tantaliosolitamente si presentano sotto forma di dischi o piastre rettangolari, ma possono anche essere realizzati in varie forme e dimensioni a seconda delle specifiche esigenze applicative. Le sue principali caratteristiche strutturali includono:
Elevata purezza: solitamente superiore al 99,9%, a volte anche fino al 99,999%. L'elevata purezza garantisce che non vengano introdotte impurità indesiderate durante il processo di deposizione del film sottile.
Uniformità: i target in tantalio devono avere una microstruttura uniforme per garantire una distribuzione uniforme del materiale durante la deposizione del film sottile.
Alta densità: l'uniformità della densità è fondamentale per garantire la stabilità durante la deposizione.