Target di tungstenoviene utilizzato principalmente per preparare prodotti di rivestimento sputtering. Nel processo di rivestimento sputtering, le particelle energetiche vengono utilizzate per bombardare il bersaglio in una camera di vuoto per causare fuggire atomi o gruppi atomici sulla superficie del bersaglio. Gli atomi sfuggiti formano un film sottile con la stessa composizione del bersaglio sulla superficie del pezzo.
Inoltre, è anche un materiale comunemente usato nella deposizione di evaporazione fisica e nella deposizione di vapore fisico. Viene spesso usato per preparare film e rivestimenti sottili. È ampiamente utilizzato nella preparazione di semiconduttori, rivestimenti ottici, celle solari e altri dispositivi elettronici.
Desaggi del prodotto target di Tungsten Zhenan
