Target di sputtering di molibdeno ad alta purezza

Target di sputtering di molibdeno ad alta purezza

Modello: bersaglio per sputtering di molibdeno
Nome: Target di sputtering di molibdeno
Purezza: Mo Maggiore o uguale al 99,95%
Densità: Maggiore o uguale a 10,22 g/cm3
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Descrizione
Parametri tecnici
Introduzione dettagliata del target del molibdeno

 

Il target di molibdeno è un materiale metallico di alta qualità utilizzato nel processo di rivestimento mediante sputtering. Grazie all'elevato punto di fusione e alla stabilità termica del molibdeno, il target di molibdeno funziona bene nel processo di sputtering ad alta temperatura, ha prestazioni eccellenti e un'ampia gamma di utilizzi. Il nostro target di molibdeno ha un'elevata purezza chimica per garantire elevata qualità e affidabilità nel processo di deposizione del film; ha anche una microstruttura uniforme, che aiuta a produrre film uniformi e stabili. I target di molibdeno sono ampiamente utilizzati nella produzione di semiconduttori per la preparazione di strati conduttivi, film ottici e altri film funzionali. Nel campo dell'ottica, i target di molibdeno possono anche essere utilizzati per preparare lenti ad alta riflettività, rivestimenti ottici e altri componenti ottici.

 

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Vari parametri del target del molibdeno

 

Nome Bersagli rotondi in metallo molibdeno per sputtering (bersaglio Mo)
Materiale Materiali metallici di molibdeno
Purezza 99.9%-99.95%, 3N,3N5
Misurare 10x10x10mm, 1-10mm, D3x3mm, 2 pollici, 3 pollici o su richiesta
Colore Colore metallizzato

 

Ambiente aziendale e visite ai clienti

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