Obiettivo di tantalio

Obiettivo di tantalio

Marca: Zhenan
Purezza: Maggiore o uguale al 99,95%
Spessore: 1-4mm o personalizzato
Colore: brillante
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Descrizione
Parametri tecnici
Fornitore di target per sputtering di tantalio puro al 99,95% ZhenAn

 

Zhen'an ha più di 30 anni di esperienza nella produzione di metallo. La fabbrica copre un'area di 30,000 metri quadrati, con una produzione e vendita di metallo annuale di oltre 150,000 tonnellate. Siamo onesti e affidabili. Benvenuti a contattarci per una collaborazione.

 

Obiettivo di sputtering di tantalio al 99,98%

 

I Ta Sputtering Target sono fogli di tantalio ottenuti tramite lavorazione a pressione. Hanno elevata purezza chimica, piccole dimensioni dei grani e buona consistenza nella struttura ricristallizzata e tre assi.

 

Parametri correlati al bersaglio di sputtering di tantalio

 

Nome della merce

Obiettivo tantalio 99,95%

Stato della consegna

Superficie luminosa

Metodo di elaborazione

Superficie lucidata

Purezza

Ta Maggiore o uguale al 99,95%

Densità

16,64 g/cm3

Applicazione

Industriale, elettronico, medico, ecc.

 

Vantaggi di ZhenAn

 

  • Ha più di 200 dipendenti
  • 30+ anni di esperienza nella produzione e vendita di prodotti metallurgici
  • La produzione annuale di prodotti metallurgici è di 600,000+ tonnellate
  • 50,000+ clienti cooperativi globali
  • 40,000+ set di equipaggiamento avanzato

 

Tempo di consegna previsto per il tantalio

 

Quantità (pezzi)

1 - 100

> 100

Tempi di consegna (giorni)

15

Da negoziare

 

Non vediamo l'ora di collaborare con voi. Se avete domande o esigenze sui nostri prodotti e servizi, non esitate a contattarci:info@zaferroalloy.com.

 

Tantalum metal target

Ta Alloy Sputtering Targets

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