Fornitore di target di sputtering Ta ad alta purezza

Fornitore di target di sputtering Ta ad alta purezza

Purezza: 99,95% minimo
Densità: 16,65 G/cm3
Vantaggi: Alta densità
Forma: Rotonda
Invia la tua richiesta
Descrizione
Parametri tecnici
Caratteristiche dei nostri obiettivi al tantalio

 

Elevata purezza chimica
Grani fini
Buona ricristallizzazione e consistenza della struttura triassiale
Buona plasticità
Buona resistenza agli acidi
Alto punto di fusione e punto di ebollizione
Piccolo coefficiente di dilatazione termica
Buone prestazioni di assorbimento e desorbimento dell'idrogeno

 

Specifiche correlate dei target di tantalio

 

Proprietà meccaniche (ricotto)

Grado

(ONU)

Resistenza alla trazione min

psi (MPa)

Limite di snervamento min

psi(MPa)(2%)

Allungamento min, %

(lunghezza del calibro 1 pollice)

 

(R05200, R05400)

30000 (207)

20000(138)

20

 

Ta-10W (R05255)

70000 (482)

60000 (414)

15

 

Potenza nominale {0}}.5W (R05252)

40000 (276)

30000 (207)

20

 

Ta-40Nb (R05240)

35000 (241)

20000 (138)

25

 

 

Il servizio di Zhenan

 

1. Personalizzato in base alle vostre esigenze e fornirvi un preventivo valido.
2. Disponiamo di ingegneri professionisti che progettano soluzioni per te.
3. Il nostro team ti fornirà consulenza e assistenza professionale per l'intero progetto.
4. La nostra fabbrica accetta ispezioni in loco in qualsiasi momento.
5. Garantire un servizio post-vendita di alta qualità.

 

Visita del cliente e ambiente aziendale

 

Pure ta metal sputtering target company

Pure Tantalum metal sputtering target company

Zhenan ha il suo team di trasporto professionale, con inventario sufficiente e consegna puntuale. Se avete domande sul metallo, vi preghiamo di contattarci.

Etichetta sexy: fornitore di target di sputtering ta ad alta purezza, Cina produttori di target di sputtering ta ad alta purezza, fornitori, fabbrica, Strip tantalum per dispositivi medici, Perù, TA ROUND BAR, Bar rotonde in metallo Ta, Aste tantalum forgiate, Asta di tantalum ad alta purezza lucidata