Target rotante in tantalio ad alta purezza

Target rotante in tantalio ad alta purezza

Densità: 16,68 g/cm3
Purezza: 99,95 min
Forma: bersaglio rotondo
Purity: >99.95%
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Descrizione
Parametri tecnici
Applicazioni del bersaglio tantalio nell'industria

 

I target in tantalio sono ampiamente utilizzati in molti campi high-tech grazie alle loro prestazioni superiori. Di seguito verranno discusse in dettaglio le loro applicazioni specifiche nell'industria elettronica e dei semiconduttori, applicazioni di rivestimenti e pellicole, dispositivi aerospaziali e medici.

A. Industria elettronica e dei semiconduttori

1. Obiettivi del tantalio nella produzione di circuiti integrati (IC)
I target in tantalio sono ampiamente utilizzati per formare strati barriera per strutture di interconnessione in rame nella produzione di circuiti integrati (IC).

2. Obiettivi di tantalio nei dispositivi di archiviazione magnetica
I bersagli in tantalio svolgono un ruolo importante anche nei dispositivi di archiviazione magnetica, come i dischi rigidi (HDD) e le memorie magnetiche ad accesso casuale (MRAM).

3. Applicazioni di rivestimenti e pellicole
I target in tantalio vengono trasformati in pellicole di tantalio dense tramite processi PVD o CVD, ricoprendo i substrati metallici e offrendo eccellenti proprietà protettive.

4. Dispositivi aerospaziali e medici
I target in tantalio vengono utilizzati per formare leghe e rivestimenti ad alta temperatura in grado di mantenere prestazioni stabili in condizioni di temperatura e pressione estremamente elevate, migliorando l'efficienza e la durata del motore.

 

Parametri correlati del bersaglio del tantalio

 

Nome Bersaglio per sputtering magnetron in metallo tantalio Ta
Purezza 99.9%-99.995%
Misurare 372x74x6mm, D3x3mm, D6x6mm, D50.8x3mm, 2 pollici, 3 pollici, come richiesta
Punto di ebollizione 54257
Densità 16,654 g/cm³
Punto di fusione 2996.0
Forma Bersaglio planare, bersaglio rotante, catodo ad arco.

 

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